ICP-MS简述
20世纪60年代末期，采用电感耦合等离子体源的原子光谱技术成为当时应用于微量元素分析的一项非常有前
途的技术（Greenfield等，1964； Wendt与Fassel, 1965）。但在分析超低含量物质时由于背景光谱增强，光谱干扰
严重使分析灵敏度和准确度达不到要求。只有质谱法能同时满足谱图简单、分辨率适中和较低检出限的要求。因此， ICP-AES所具有的样品易于引入、分析速度快、多元素同时分析的特点与质谱仪的联用成为科学和商业上研究的
热点。1970年许多公司深入的参与了该技术的研究，CP作为发射源使等离子体中分析物有效电离能够满足新一代
仪器源的要求。同时也注意到惰性气体在大气压下的电等离子体可能是一个很好的离子源。因此人们采用四极杆 质量分析器和通道式离子检测器开展可行性研究。Gral在70年代中期首先报道了用等离子体作为离子源的质谱分 析法。1981年Gray在Surrey实验室设计完成了 ICP源上所预期性能的设备，获得了张ICP谱图。1983年英 国VG公司与加拿大Sciex公司推出商业化的ICP-MS，1984年在用户实验室才安装ICP-MS。在此以后 ICP-MS在化学分析中广泛应用开来。
ICP-MS理想的样品制备应该达到以下几条标准
• 将固体和液体样品转换为澄清溶液
• 完全消解了所有的有机物质
• 保留所有目标检测元素，并且元素浓度在仪器的检测范围内
• 未引入新的干扰离子
• 将样品的粘度和固体物含量调节到适合分析的范围
• 确保所有的样品容器都进行过酸液浸泡的前处理，以保证的检出限
想了解更多产品信息您可拨打公司热线进行咨询！钢研纳克竭诚为您服务！
这些干扰要有效识别和消除 ICP-MS 质谱仪中的干扰，可以采取以下一些方法
干扰校正方程：通过建立干扰校正方程，利用已知的干扰元素和目标元素的关系，对干扰进行校正。
内标法：使用内标元素来监测和校正信号的变化，以补偿基体效应和其他干扰。
碰撞/反应池技术：利用碰撞/反应池来去除或降低多原子离子、分子离子等干扰。
选择合适的质量数：避免选择受到严重干扰的质量数，或者采用高分辨率质谱仪来区分干扰和目标离子。
优化仪器参数：调整射频功率、离子源气体流量等参数，以减少干扰的影响。
样品前处理：适当的样品前处理方法可以去除干扰物质，如稀释、萃取、净化等。
同位素比值测量：通过测量同位素比值，可以消除一些干扰的影响，并提供的分析结果。
质量筛选：利用质量筛选技术，只监测特定质量数范围内的离子，减少干扰的干扰。
数据处理方法：采用合适的数据处理软件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，来校正干扰。
标准加入法：通过添加已知浓度的标准物质到样品中，校正基体效应和干扰。
识别和消除干扰需要综合考虑多种方法，并根据具体的分析需求和样品特点选择合适的策略。同时，定期进行质量控制和方法验证也是确保干扰得到有效校正的重要步骤。
以上信息由专业从事ICP-MS质谱仪厂家的钢研纳克于2025/3/11 20:55:22发布
转载请注明来源：http://beijing.mf1288.com/bjgynk-2847350282.html
