钢研纳克PlasmaMS 300 电感耦合等离子体质谱仪 ICP-MS拥有自主知识产权
软件著作权
1.《Imass质谱软件》V1.0.0，2015R11S240625
文章
1.《一种四级杆质谱仪真空测量系统及控制系统的研制》2017.2，期刊
2.《HPLC-ICP-MS 测定六种中药中五种形态》，2016.10.北京光谱年会
3.《电感耦合等离子体质谱法测定镍钨合金中》2015.3.6，期刊
4.《不锈钢薄板横截面的激光剥蚀-电感耦合等离子体质谱原位统计分布分析》2013.10
5.《电感耦合等离子体四级杆质谱碰撞反应池技术现状与发展》，2013.3，期刊
6.《电感耦合等离子体四极杆质谱离子光学系统的现状和进展》2013.3，期刊
7.《激光剥蚀电感耦合等离子体质谱新进展》, 2012.3,期刊
8.《电感耦合等离子体法测量锰锌》；2014，冶金分析
ICP-MS分析流程的建立
对于一种新基体的样品来说，常规的分析路径如下：
1. 酸化或溶解样品
样品一般需要先进行酸化溶解使目标元素溶解在液体中.
2. 选择目标分析物和目标同位素
根据浓度范围来选择分析物和同位素。
3. 先进行扫描以便识别出存在的干扰
可以先进行半定量扫描，可以通过半定量扫描判断大致存在哪些元素以及各个元素 的大致浓度范围。
4. 选择数据的采集模式以及校正曲线的类型
一般如果使用连续流的数据采集模式，会使用外标定量法。也有其他的数据评估方
法可以使用。
5. 选择合适的内标元素
内标元素的使用可以校正由于时间或基体抑制效应引起的信号漂移。
6. 能进行基体匹配
将标样的基体匹配到和您的样品基体完全一致，可以将两者之间的差异减小到小， 并且有助于得到更为准确的结果数据。
7. 进行质量控制校正（QC check）
在分析过程中插入另一来源的标样(2nd Source Standard)或者有证标准物质 (Certified Reference Material)，确保数据的完整性。
这些干扰要有效识别和消除 ICP-MS 质谱仪中的干扰，可以采取以下一些方法
干扰校正方程：通过建立干扰校正方程，利用已知的干扰元素和目标元素的关系，对干扰进行校正。
内标法：使用内标元素来监测和校正信号的变化，以补偿基体效应和其他干扰。
碰撞/反应池技术：利用碰撞/反应池来去除或降低多原子离子、分子离子等干扰。
选择合适的质量数：避免选择受到严重干扰的质量数，或者采用高分辨率质谱仪来区分干扰和目标离子。
优化仪器参数：调整射频功率、离子源气体流量等参数，以减少干扰的影响。
样品前处理：适当的样品前处理方法可以去除干扰物质，如稀释、萃取、净化等。
同位素比值测量：通过测量同位素比值，可以消除一些干扰的影响，并提供的分析结果。
质量筛选：利用质量筛选技术，只监测特定质量数范围内的离子，减少干扰的干扰。
数据处理方法：采用合适的数据处理软件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，来校正干扰。
标准加入法：通过添加已知浓度的标准物质到样品中，校正基体效应和干扰。
识别和消除干扰需要综合考虑多种方法，并根据具体的分析需求和样品特点选择合适的策略。同时，定期进行质量控制和方法验证也是确保干扰得到有效校正的重要步骤。
以上信息由专业从事ICPMS质谱仪厂家的钢研纳克于2025/3/7 15:12:16发布
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