真空除气储存柜的技术参数
1. 腔室内尺寸：①②号宽1050x高200x深700mm ③号宽1050x高380x深700mm；
2. 极限真空度：2×10-5Pa；
3. 加热烘烤：200-800℃烘烤除气功能，±3℃；
4. 整体结构型式：泵箱一体，三个腔室；
5. 观察窗：每一个箱室均配一个Φ100观察窗，材质为石英玻璃，透光好；
6. 控制方式：一室一泵配置，自动保持真空，可手动独立控制工作；
7. 异常报警功能：具有自动监控各部分的运行状态功能，异常诊断报警，故障诊断，并停止设备运行的功能。
真空除气炉的构成介绍
本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空箱室单元由真空箱、真空测量装置、加热烘烤组件、管道阀门等组成。
真空箱：采用304不锈钢材质制造，分为上中下三个独立的真空箱室，其内表面在加工后经除油、电抛光处理，保证了较少的藏气，提高了真空箱室的抽空效率和极限真空。真空箱室外部有加强筋，保证真空箱室承压能力。每个真空箱室门中间部位各具有一个Φ100石英观察窗，真空箱室与真空获得系统采用柔性软管连接，方便快捷，并减少震动。真空箱室开门为上中下三开门，氟胶圈型式密封，向右侧侧开门。
高真空除气炉的特点
科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
① 极限真空度高；
② 控温精度高；
③ 更高的升温速率；
④ 更加智能化；
⑤ 可真空去除产品空洞与气泡；
⑥ 降低产品的氧化性；
⑦ 提高工艺室的洁净度。
真空除气存储柜工艺流程
真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。
该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。
设备具有很高的智能化，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。
以上信息由专业从事真空储存柜公司的科创真空于2024/4/30 12:09:09发布
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