真空除气储存柜设备用途
本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；X射线管高真空除气。
真空除气储存柜的使用
1、真空除气装置，真空除气炉报价，在抽真空之前放置好产品、关闭箱室门，然后启动抽真空，加热系统持续不间断渐热。真空除气炉公司，达到设定真空度时，保持加热并持续保持真空度，设定工艺完成后，自动停止抽真空，加热系统关闭。当进入维持真空模式时，低于下限的时候自动启动；（启动为抽真空、停止为停止真空泵工作、解压为需要把真空破空）
2、真空度设定操作见操作说明书，用不到的功能禁止调整。
3、试验时间完成后，自动破空，破空完成后，方可开门取出产品。
高真空除气炉的特点
科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
① 极限真空度高；
② 控温精度高；
③ 更高的升温速率；
④ 更加智能化；
⑤ 可真空去除产品空洞与气泡；
⑥ 降低产品的氧化性；
⑦ 提高工艺室的洁净度。
真空除气储存柜
一种真空除气存储柜，包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等，柜体内设置有一个或多个储物室，储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端，柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖，储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板，托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连，真空除气炉。
本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置处长期通风良好的位置。
请小心将物品放入机台，关上箱门，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到面部。
以上信息由专业从事真空除气炉生产厂家的科创真空于2024/3/28 15:01:42发布
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